特許
J-GLOBAL ID：200903058487116452

気体分離膜及びその製造方法

発明者：
浅枝 正司

浅枝 正司 について

, 
金指 正言

金指 正言 について


出願人/特許権者：
国立大学法人広島大学

国立大学法人広島大学 について


代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-081266
公開番号（公開出願番号）：特開2005-305425
出願日： 2005年03月22日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】 高い気体透過性、気体選択性及び耐水性を備える気体分離膜、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の気体分離膜の製造方法は、加熱したシリカ-ジルコニア層に、調製後に溶媒で希釈した希釈シリカ金属コロイドソルを接触させてシリカ金属コロイドゲル層を形成し、当該シリカ金属コロイドゲル層を焼成してシリカ金属複合層を形成するシリカ金属複合層形成工程を含んでいるから、シリカ金属コロイドソルの粒径及び大きさを任意に調整して、高い気体透過性を有する分離膜を実現することができる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
セラミック基材にシリカ金属複合層が積層されている気体分離膜の製造方法であって、 加熱したセラミック基材に、シリカ金属コロイドソルを調製し溶媒で希釈した希釈シリカ金属コロイドソルを接触させてシリカ金属コロイドゲル層を形成し、当該シリカ金属コロイドゲル層を焼成してシリカ金属複合層とするシリカ金属複合層形成工程を含んでいることを特徴とする気体分離膜の製造方法。
IPC (3件)：
B01D71/02 ,  B01D53/22 ,  B01D69/12
FI (3件)：
B01D71/02 500 ,  B01D53/22 ,  B01D69/12
Fターム (18件)：
4D006GA41 ,  4D006HA28 ,  4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MA31 ,  4D006MA40 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB15 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03X ,  4D006NA39 ,  4D006NA45 ,  4D006NA50 ,  4D006PA02 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4D006PC69
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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