特許
J-GLOBAL ID：200903058513183376
ホトレジスト用アルカリ性現像液
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-371238
公開番号（公開出願番号）：特開2002-174906
出願日： 2000年12月06日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：
【要約】【課題】 プリント配線板などの製造工程において回路パターン形成用ホトレジストおよび保護用ホトレジストのアルカリ性現像液において、現像装置内で発生する固着物が防止できるアルカリ性現像液を提供すること。【解決手段】 アルカリ性化合物を基本とした現像液において、有機カルボン酸およびその塩類を単独でまたは二種以上を組み合わせて使用することを特徴とするホトレジスト用アルカリ性現像液。
請求項（抜粋）：
アルカリ性化合物を基本とした現像液において、有機カルボン酸およびその塩類を単独でまたは二種以上を組み合わせて使用することを特徴とするホトレジスト用アルカリ性現像液。
IPC (3件)：
G03F 7/32
, H01L 21/027
, H05K 3/06
G03F 7/32
, H05K 3/06 G
, H01L 21/30 569 E
2H096AA26
, 2H096GA10
, 5E339CC01
, 5E339CC02
, 5E339CD01
, 5E339CF18
, 5E339DD02
, 5F046LA12
