特許

J-GLOBAL ID：200903058554949650

微細パターン検査装置、CD-SEM装置の管理装置、微細パターン検査方法、CD-SEM装置の管理方法、プログラムおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体

発明者： 池 田 隆 洋
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 吉武 賢次 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-296275
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100828
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 高精度でかつ高速で微細パターンを検査する装置、方法、およびCD-SEM装置の管理装置、管理方法を提供する。【解決手段】 コンピュータ120とメモリMR1,2とを備え、CD-SEM装置110および断面SEM装置に接続されてパターンの二次電子信号と断面形状データとをそれぞれ受け取る微細パターン検査装置10を用い、被検査パターンが形成される基板と同一の基板上に異なる断面形状で形成された複数のテストパターンに電子ビームを照射して得られた第1の二次電子信号を、テストパターン断面の輪郭形状を引数に含む第1の関数と、テストパターンの各材質に応じてステップ関数で定義される第2の関数と、信号の歪みの大きさを表す第3の関数とに変数分離して各関数をメモリMR2に格納した後、被検査パターンに電子ビームを照射して得られた第2の二次電子信号のデータを取得し、上記第1乃至第3の関数を用いて上記第2の二次電子信号から被検査パターンの断面形状に基づく成分を抽出する。

請求項（抜粋）：

被検査パターンが形成される基板と同一の基板上に異なる断面形状で形成された複数のテストパターンに電子ビームを照射して得られた第1の二次電子信号のデータと、前記テストパターンの断面の輪郭形状のデータとを受け、前記第1の二次電子信号を、前記断面の輪郭形状を引数に含む第1の関数と、前記テストパターンを構成する材質のそれぞれに応じてステップ関数で定義される第2の関数と、信号の歪みの大きさを表す第3の関数とに変数分離する第1の演算手段と、前記第1の演算手段により得られた前記第1乃至第3の関数を格納する第1の記憶領域を有する記憶手段と、前記被検査パターンに前記電子ビームを照射して得られた第2の二次電子信号のデータを受け、前記記憶手段に格納された前記第1乃至第3の関数を用いて前記第2の二次電子信号から前記被検査パターンの断面形状に基づく成分を抽出する演算を実行する第2の演算手段と、を備える微細パターン検査装置。

IPC (3件)：

H01L 21/66 ,  G01B 15/04 ,  G01N 23/225

FI (3件)：

H01L 21/66 J ,  G01B 15/04 ,  G01N 23/225

Fターム (29件)：

2F067AA52 ,  2F067AA53 ,  2F067AA54 ,  2F067BB04 ,  2F067CC15 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067KK08 ,  2F067RR12 ,  2F067RR28 ,  2F067RR35 ,  2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA06 ,  2G001GA06 ,  2G001GA08 ,  2G001KA20 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB11 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23

引用特許：

出願人引用 (2件)

• パターン寸法測定方法およびパターン寸法測定処理プログラムを記録した記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-042069   出願人：株式会社東芝
• 電子顕微鏡およびその分解能評価方法並びにそれを用いた半導体製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-028069   出願人：株式会社日立製作所