電子線描画装置、電子線を用いた描画方法及び電磁コイルの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：春日讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-050028
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244167
出願日： 2000年02月25日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【課題】偏向器による、渦電流の発生、磁性体への到達磁場を最小に抑え、良好な偏向磁場分布を有する電子線描画装置を実現する。【解決手段】偏向器31が駆動して筐体部32に磁場が到達する場合、到達磁場が変動しなければ問題無いが偏向器31は短時間で磁場を変化させるため筺体部32には磁束の進入を妨げる渦電流が生じる。そこで、偏向器31の外周であって筺体部32の内周側にシールド偏向器35を設ける。シールド偏向器35はメイン偏向器31と逆向きの磁場を発生させるため漏洩磁場がメイン偏向器31より非常に小さい。シールド偏向器35を付加するだけで磁場強度は中心磁場に対して抑制され、それによる渦電流磁場は生じない。つまり、渦電流発生源の位置を変えること無く、ソフトウエアによる補正を実施すること無く、渦電流磁場の発生を抑制することができる。

請求項（抜粋）：

電子線を試料に照射してパターンを試料に描画する電子線描画装置において、上記電子線を偏向する電磁型の偏向器と、上記偏向器が上記電子線を一方向に偏向するとき、上記一方向に対して異なる位置に配置される電磁場発生源と、を備えることを特徴とする電子線描画装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , H01J 37/147 , H01J 37/153 , H01J 37/305

FI (5件)：

G03F 7/20 504 , H01J 37/147 C , H01J 37/153 Z , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 D

Fターム (13件)：

2H097BB03 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 5C033GG03 , 5C033GG04 , 5C033JJ07 , 5C034BB04 , 5C034BB07 , 5F056BA09 , 5F056CB11 , 5F056EA06 , 5F056EA08 , 5F056FA03

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭64-033834
特開昭64-017363
偏向装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-173616 出願人：エイシーティーアドバンストサーキットテスティングゲゼルシャフトフュアテストジュステームエントヴィックリングミットベシュレンクテルハフツング

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審査官引用 (5件)

特開昭64-017363
偏向装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-173616 出願人：エイシーティーアドバンストサーキットテスティングゲゼルシャフトフュアテストジュステームエントヴィックリングミットベシュレンクテルハフツング
特開昭64-033834

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