赤外線カット膜が形成された透明物品およびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：鎌田耕一 , 黒田茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-292619
公開番号（公開出願番号）：特開2007-099571
出願日： 2005年10月05日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】ITOを含みながらも、耐摩耗性に優れた赤外線カット膜が形成された透明物品を提供する。【解決手段】透明基体と、その表面に形成された有機物および無機酸化物を含む赤外線カット膜とを含み、赤外線カット膜が無機酸化物としてシリカを含んでこれを主成分とし、赤外線カット膜の表面に対して実施するJIS R 3212に規定されたテーバー摩耗試験の後に、赤外線カット膜が基体から剥離せず、当該赤外線カット膜が、硫酸に由来する化合物および硫酸イオンからなる群から選ばれた少なくとも1種と、ITOと、を含む、透明物品とする。この透明物品は、透明基体の表面に有機無機複合膜の形成溶液を塗布した後、300°C以下の温度に保持しながら、塗布した形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去することにより製造できる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

透明基体と、前記透明基体の表面に形成された赤外線カット膜とを含む、赤外線カット膜が形成された透明物品であって、前記赤外線カット膜が、有機物および無機酸化物を含む有機無機複合膜であり、前記有機無機複合膜が前記無機酸化物としてシリカを含み、前記有機無機複合膜が前記シリカを主成分とし、前記有機無機複合膜の表面に対して実施するJIS R 3212に規定されたテーバー摩耗試験の後に、前記有機無機複合膜が前記透明基体から剥離せず、前記有機無機複合膜が、硫酸に由来する化合物および硫酸イオンからなる群から選ばれた少なくとも1種と、インジウムスズ酸化物と、を含む、赤外線カット膜が形成された透明物品。

IPC (6件)：

C03C 17/32 , B32B 7/02 , B32B 9/00 , B05D 5/06 , B05D 7/24 , G02B 5/22

FI (6件)：

C03C17/32 A , B32B7/02 103 , B32B9/00 Z , B05D5/06 F , B05D7/24 302Y , G02B5/22

Fターム (63件)：

2H048CA04 , 2H048CA05 , 2H048CA09 , 2H048CA12 , 2H048CA19 , 2H048CA26 , 2H048CA29 , 4D075BB24Z , 4D075BB56Y , 4D075BB91Y , 4D075BB92Z , 4D075BB93Z , 4D075CA02 , 4D075CA13 , 4D075CA17 , 4D075CB07 , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DB36 , 4D075DB48 , 4D075DB53 , 4D075DB55 , 4D075DC24 , 4D075EA06 , 4D075EA10 , 4D075EB19 , 4D075EB37 , 4D075EB43 , 4D075EB47 , 4D075EB56 , 4D075EC01 , 4D075EC03 , 4D075EC35 , 4D075EC54 , 4F100AA01B , 4F100AA17A , 4F100AA20A , 4F100AA28A , 4F100AA33A , 4F100AG00B , 4F100AH00A , 4F100AK01A , 4F100AK01B , 4F100AK54A , 4F100AR00B , 4F100BA02 , 4F100CA18A , 4F100GB41 , 4F100JB05A , 4F100JD10A , 4F100JK06A , 4F100JN01B , 4F100YY00A , 4F100YY00B , 4G059AA01 , 4G059AC06 , 4G059AC16 , 4G059EA03 , 4G059EA05 , 4G059EB07 , 4G059FA07 , 4G059FA27 , 4G059FB03

引用特許：

出願人引用 (4件)

シリカ系膜被覆物品を製造する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-342439 出願人：日本板硝子株式会社
特開平3-212451号公報
特開平3-56535号公報

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