特許
J-GLOBAL ID:200903031931030092

所定表面形状を有する物品の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大野 精市
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-045589
公開番号(公開出願番号):特開2002-338304
出願日: 2002年02月22日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 高い屈折率すぐれた耐熱性高い膜硬度およびすぐれた転写性を有するケ ゙ル化膜が基材表面に被覆された所定表面形状を有する物品を提供する。【解決手段】 ソ ゙ルケ ゙ル材料を基材と成形型との間に密着させて膜状に配置しついで加熱して、転写表面を有するケ ゙ル化膜が基材表面に被覆された物品の製造方法において前記ソ ゙ルケ ゙ル材料がM1Xmで表される金属化合物、その加水分解物またはその加水分解縮重合物、およびR1M2Ynで表される金属化合物その加水分解物またはその加水分解縮重合物を含有しておりM1およびM2の少なくとも一方はTi,Zr,Al,Ge,SnまたはSbの金属原子でありそして上記金属原子はM1およびM2の総数の少なくとも10%の個数を占める。
請求項(抜粋):
ゾルゲル材料を基材と成形型との間に密着させて膜状に配置しついで加熱して前記成形型の成形表面形状を反転させた形状の表面を有するゲル化膜で基材表面が被覆されている、所定表面形状を有する物品の製造方法において、前記ゾルゲル材料が、(A)下記式(1)で表される金属化合物、その加水分解物およびその加水分解縮重合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物、【化1】M1Xm ・・(1)ここでM1はSi,Ti,Zr,Al,Ge,SnまたはSbであり、Xはアルコキシル基またはハロゲン原子でありそしてmはM1がSi,Ti,Zr,GeまたはSnである場合は4であり、M1がAlまたはSbである場合は3である、および(B)下記式(2)で表される金属化合物、その加水分解物およびその加水分解縮重合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物、【化2】R1M2Yn ・・(2)ここでR1はアリール基、置換アリール基またはベンジル基であり、M2はSi,Ti,Zr,Al,Ge,SnまたはSbであり、Yはアルコキシル基またはハロゲン原子でありそしてnはM2がSi,Ti,Zr,GeまたはSnである場合は3であり、M2がAlまたはSbである場合は2である、を含有しており、ここにおいて、M1およびM2の少なくとも一方はTi,Zr,Al,Ge,SnおよびSbからなる群より選ばれる少なくとも1種の特定金属原子であり、そして前記ゾルゲル材料中の上記特定金属原子は前記ゾルゲル材料中のM1およびM2の合計の少なくとも10原子%を占めることを特徴とする所定表面形状を有する物品の製造方法。
IPC (3件):
C03C 17/28 ,  C03C 17/25 ,  G02B 3/00
FI (3件):
C03C 17/28 A ,  C03C 17/25 A ,  G02B 3/00 A
Fターム (8件):
4G059AA11 ,  4G059AC01 ,  4G059AC30 ,  4G059FA01 ,  4G059FA05 ,  4G059FA28 ,  4G059FA29 ,  4G059FB06
引用特許:
審査官引用 (4件)
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