特許
J-GLOBAL ID：200903058594998816

研磨用組成物

発明者：
大橋 圭吾

大橋 圭吾 について


出願人/特許権者：
株式会社フジミインコーポレーテッド

株式会社フジミインコーポレーテッド について


代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-009444
公開番号（公開出願番号）：特開2006-193695
出願日： 2005年01月17日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：
【課題】 ガラス基板を研磨する用途においてより好適に使用可能な研磨用組成物を提供する。【解決手段】 本発明の研磨用組成物は、二酸化ケイ素粒子と、ポリスチレンスルホン酸、ポリカルボン酸ポリマー及びそれらの塩、並びにポリ酢酸ビニルよりなる群から選ばれる少なくとも一つの重合体化合物と、水とを含有し、ガラス基板を研磨する用途に用いられる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ガラス基板を研磨する用途に用いられる研磨用組成物であって、 二酸化ケイ素粒子と、 ポリスチレンスルホン酸、ポリカルボン酸ポリマー及びそれらの塩、並びにポリ酢酸ビニルよりなる群から選ばれる少なくとも一つの重合体化合物と、 水と を含有する研磨用組成物。
IPC (3件)：
C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84
FI (4件)：
C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z ,  B24B37/00 H ,  G11B5/84 A
Fターム (7件)：
3C058AA07 ,  3C058CA06 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  5D112AA02 ,  5D112BA03 ,  5D112GA14
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (12件)
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