エキシマレーザー装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池澤寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-076317
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263780
出願日： 1994年03月24日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】出力レーザービームの繰返し周波数を高く得ることが可能であるとともに、注入用レーザー装置の小型化およびエキシマレーザー装置の小型化を可能として、装置コストおよびランニングコストの低減を図ったインジェクションシーディング方式によるエキシマレーザー装置を提供すること。【構成】インジェクションシーディング方式のエキシマレーザー装置であって、シードレーザーとして、その出力ビームの繰返し周波数を高くすることができるようにした連続波Qスイッチ式のYAGレーザーあるいは半導体レーザーなどの固体レーザー22を用いたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

シードレーザーとしての第1のレーザーと、この第1のレーザーからの出力ビームをシード光として注入する第2のレーザーとしてのエキシマレーザーと、を有するインジェクションシーディング方式のエキシマレーザー装置であって、前記シードレーザーとして、その出力ビームの繰返し周波数を高くすることができるようにした固体レーザーを用いたことを特徴とするエキシマレーザー装置。

IPC (5件)：

H01S 3/0943 , G02F 1/37 , H01S 3/109 , H01S 3/16 , H01S 3/225

FI (2件)：

H01S 3/094 G , H01S 3/223 E

引用特許：

審査官引用 (10件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-270708 出願人：日本電気株式会社
特開平2-012980
固体波長可変レーザー装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-212818 出願人：石川島播磨重工業株式会社

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