特許
J-GLOBAL ID：200903058624905486
液浸リソグラフィにおける光学素子の洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川北 喜十郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-509667
公開番号（公開出願番号）：特表2006-523031
出願日： 2004年04月02日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
液浸リソグラフィ装置は、レチクルを保持するように配置されたレチクルステージと、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、光学システムとを有する。該光学システムは光源と、ワークピースに対向して配置されて光源からの照射によってレチクルのパターン像を投影させる光学素子とを含む。光学素子とワークピースとの間に隙間が画成されており、流体供給ユニットがこの隙間に液浸液体を供給して、液浸リソグラフィプロセスの間、供給された液浸液体を光学素子とワークピースの両方に接触させる働きをする。吸収された液体を洗浄プロセスの間に光学素子から取り除くために、クリーニングデバイスが組み込まれている。クリーニングデバイスは吸収された液体を取り除くために、吸収された液体に対して親和性を持つクリーニング液体、熱、減圧状態、超音波振動又はキャビテーション気泡を利用し得る。クリーニング液体は、バルブなどの切り替えユニットを備えられた、同じ流体供給ユニットを介して供給され得る。
請求項（抜粋）：
液浸リソグラフィにおける光学系の洗浄方法であって、
リソグラフィ用のワークピースをステージ上に位置付け、光学素子を有する投影光学系を前記ワークピースの上方に且つワークピースに対向すると共に前記光学素子とワークピースとの間に隙間が設けられるように位置付けることと、
液浸リソグラフィプロセス中に液浸液体が前記光学素子及び前記ワークピースに接触するように、前記隙間に液浸液体を供給することと、
前記光学素子を洗浄プロセス中に洗浄することとを含む、液浸リソグラフィにおける光学系の洗浄方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F046AA28
, 5F046CB01
, 5F046CB12
, 5F046CB26
