投影露光装置及び投影露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-338109
公開番号（公開出願番号）：特開平11-162831
出願日： 1997年11月21日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】投影光学系等の光学部材の感光剤等付着による汚れを少なくすることにより、露光精度を向上して、パターン転写を実行する。【解決手段】転写時以外の時に、清掃装置8によって所定位置の光学部材OBを清掃した後、あるいは、汚れ防止装置98によって感応基板Wと所定位置の光学部材OBとの間で気体を流動させながら、感応基板Wへのパターン転写を行う。また、転写時以外の時に、汚れ測定装置84によって所定位置の光学部材OBの汚れを測定し、測定結果に基づいて、転写の実行、または、光学部材OBの清掃若しくは交換を実行する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを、投影光学系を介して感応基板上に転写する投影露光装置において、所定位置に配置された光学部材を清掃する清掃装置を設けたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B08B 3/12 , G01N 21/88 , G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 503 G , B08B 3/12 A , G01N 21/88 E , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 Z

引用特許：

審査官引用 (9件)

露光方法と露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-337539 出願人：富士通株式会社
露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-113996 出願人：ソニー株式会社
半導体露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-111167 出願人：キヤノン株式会社

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