特許
J-GLOBAL ID：200903058695798877
プラズマ処理装置用電源システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 隆二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-057989
公開番号（公開出願番号）：特開2002-260899
出願日： 2001年03月02日
公開日（公表日）： 2002年09月13日
要約：
【要約】【課題】 整合をとる煩雑な手間を要せず、取り扱いが容易で整合時間が短縮され、かつプラズマが均一になり、生成する膜厚の均一性及び再現性の向上を図ることができるプラズマ処理装置用電源システムを提供する。【解決手段】 一端が給電端であり他端が接地電位であるU字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、VHF帯域のプラズマ発生用電源の出力を、1つの電源から分配器を用いて複数のU字型電極の給電端に分配して供給する。分配された出力をアイソレーターを介して供給すれば、整合器等で負荷プラズマとのインピーダンス整合を省略することができ、また、移相器等により位相を制御することもできる。
請求項（抜粋）：
一端が給電端であり他端が接地電位であるU字型電極を複数備えたプラズマ処理装置において、VHF帯域のプラズマ発生用電源の出力を、1つの電源から分配器を用いて前記複数の電極の給電端に分配して供給することを特徴とするプラズマ処理装置用電源システム。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, C23C 16/52
, H01L 21/205
H05H 1/46 R
, C23C 16/52
, H01L 21/205
4K030FA01
, 4K030JA18
, 4K030JA19
, 4K030KA30
, 5F045AA08
, 5F045AB04
, 5F045AF07
, 5F045CA15
, 5F045EH01
, 5F045EH04
, 5F045EH11
