特許
J-GLOBAL ID:200903058737225929

液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 江上 達夫 ,  中村 聡延
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-211024
公開番号(公開出願番号):特開2007-025529
出願日: 2005年07月21日
公開日(公表日): 2007年02月01日
要約:
【課題】 液晶分子及び配向膜間における光化学反応を抑制する。【解決手段】 配向膜16の表面をシラン化合物で処理しておくことにより、液晶装置1の動作時に、液晶分子と光化学反応するシラノール基を減らしておく。反応活性サイトとなるシラノール基のうち配向膜16の表面に存在する水酸基(-OH基)にシラン化合物を反応させておくことによって反応層31を形成し、液晶分子50aと光化学反応するシラノール基を低減する。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
無機材料によって形成された無機垂直配向膜を備えた液晶装置であって、 前記無機垂直配向膜の表面が、下記一般式(1)で表されるシラン化合物によって処理されていること を特徴とする液晶装置。
IPC (1件):
G02F 1/133
FI (1件):
G02F1/1337
Fターム (3件):
2H090HB12Y ,  2H090KA04 ,  2H090MA01
引用特許:
出願人引用 (4件)
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