特許
J-GLOBAL ID：200903058762237800
水素生成用触媒と排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-369942
公開番号（公開出願番号）：特開2001-179100
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
要約：
【要約】【課題】貴金属の粒成長を抑制するとともに、硫黄被毒が抑制された水素生成用触媒とする。【解決手段】ジルコニアとイットリアを含みZrとYの含有比率が原子比でZr:Y=80:20〜20:80の範囲にあってジルコニアとイットリアの少なくとも一部が固溶体となっている担体と、担体に担持された貴金属とからなる構成とした。Zr及びYが貴金属に固溶して合金化し、これにより貴金属の再結晶温度が高くなるため粒成長が抑制されると考えられ、貴金属の粒成長が抑制される。またジルコニアとイットリアの固溶体に吸着した硫黄酸化物は、一種の複合硫酸塩を形成し、この複合硫酸塩はジルコニア又はイットリア単独の硫酸塩に比べて不安定であるため容易に分解する。
請求項（抜粋）：
ジルコニアとイットリアを含みジルコニウムとイットリウムの含有比率が原子比でZr:Y=80:20〜20:80の範囲にあってジルコニアとイットリアの少なくとも一部が固溶体となっている担体と、該担体に担持された貴金属とよりなり、一酸化炭素及び炭化水素から選ばれる少なくとも一種の還元性成分と水蒸気との反応により水素を生成する反応の触媒であることを特徴とする水素生成用触媒。
IPC (7件)：
B01J 23/63
, B01D 53/94
, B01J 23/58
, B01J 23/58 ZAB
, C01B 3/12
, C01B 3/40
, F01N 3/10
B01J 23/58 M
, B01J 23/58 ZAB A
, C01B 3/12
, C01B 3/40
, F01N 3/10 A
, B01J 23/56 301 M
, B01D 53/36 104 Z
, B01J 23/56 301 A
3G091AA12
, 3G091AA13
, 3G091AB01
, 3G091AB06
, 3G091BA00
, 3G091BA11
, 3G091BA14
, 3G091BA15
, 3G091BA19
, 3G091BA39
, 3G091CB02
, 3G091FB03
, 3G091FB10
, 3G091FB11
, 3G091FB12
, 3G091FC08
, 3G091GA01
, 3G091GA06
, 3G091GB01X
, 3G091GB02Y
, 3G091GB03Y
, 3G091GB04Y
, 3G091GB05W
, 3G091GB06W
, 3G091GB06X
, 3G091GB07W
, 3G091GB10X
, 3G091HA08
, 4D048AA06
, 4D048AA13
, 4D048AB02
, 4D048AC10
, 4D048BA08X
, 4D048BA08Y
, 4D048BA18X
, 4D048BA18Y
, 4D048BA30X
, 4D048BA30Y
, 4D048BA33Y
, 4D048BA42X
, 4D048BA42Y
, 4D048BB01
, 4D048BC01
, 4D048CC44
, 4D048CC46
, 4G040EB32
, 4G040EC01
, 4G040EC03
, 4G040EC04
, 4G040EC05
, 4G040FB04
, 4G040FB06
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA05A
, 4G069BA05B
, 4G069BB04A
, 4G069BB06B
, 4G069BC01A
, 4G069BC08A
, 4G069BC30A
, 4G069BC40A
, 4G069BC40B
, 4G069BC51A
, 4G069BC51B
, 4G069BC69A
, 4G069BC71B
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
, 4G069CA08
, 4G069CA13
, 4G069CC26
, 4G069EA02Y
, 4G069FB09
, 4G069FB30
, 4G069FC08
