特許

J-GLOBAL ID：200903058767019258

微粒子径測定装置

発明者： 森 勇蔵
出願人/特許権者： 森 勇蔵 ,  日本分光株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-071375
公開番号（公開出願番号）：特開平9-236411
出願日： 1996年02月29日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 不意の過大入射光に対しても光電子増倍管を破損することなく、微粒子径を適切に計測し得る。【解決手段】被測定試料10表面にレーザ光Lを照射するレーザ光照射手段16と、レーザ光Lを被測定試料10表面で1次元方向または2次元方向に走査し、これを同一の被測定試料について複数回行う走査手段18,20と、被測定試料10表面からのレイリー散乱光を集光する集光手段22,24と、集光されたレイリー散乱光の強度情報に対応した出力電流を得る光電子増倍管26と、出力電流が最大定格出力電流以下で飽和するように、ブリーダ抵抗値が高抵抗よりなる加速電圧印加手段27と、出力電流値を記憶する記憶手段28と、印加電圧を各回の走査終了時に順次変更する電圧変更手段28と、光電子増倍管26の入射光量対出力電流特性を得る入射光量対出力電流特性取得手段28と、記憶された出力電流値のうち、飽和値以下の出力電流値より被測定試料10表面の微粒子の粒径を計測する粒径情報取得手段28と、を備えた。

請求項（抜粋）：

被測定試料表面にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、前記レーザ光照射手段からのレーザ光を被測定試料表面で1次元方向または2次元方向に走査し、これを同一の被測定試料について複数回行う走査手段と、被測定試料表面からのレイリー散乱光を集光する集光手段と、前記集光手段により集光されたレイリー散乱光の強度情報に対応した出力電流を得る光電子増倍管と、前記光電子増倍管の出力電流が最大定格出力電流以下で飽和するように、ブリーダ抵抗値が高抵抗よりなる加速電圧印加手段と、前記光電子増倍管により得られた出力電流値を記憶する記憶手段と、前記光電子増倍管の印加電圧を各回の走査終了時に順次変更する電圧変更手段と、被測定試料の測定前に前記光電子増倍管の入射光量対出力電流特性を得る入射光量対出力電流特性取得手段と、前記入射光量対出力電流特性取得手段により得られた入射光量対出力電流特性に基づき、前記記憶手段に記憶された出力電流値のうち、飽和値以下の出力電流値より被測定試料表面の微粒子の粒径を計測する粒径情報取得手段と、を備えたことを特徴とする微粒子径測定装置。

IPC (2件)：

G01B 11/08 ,  G01N 15/14

FI (2件)：

G01B 11/08 Z ,  G01N 15/14 P

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 半導体ウエハ検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-260201   出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
• 基板表面粒子測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-057723   出願人：株式会社荏原製作所
• 特開昭62-126540