特許
J-GLOBAL ID：200903058767590290
薄膜の成膜装置およびこれを用いて薄膜が形成された液晶表示装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大岩 増雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-079012
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273626
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】 薄膜の成膜装置のチャンバー壁や内部構造物への膜の付着を抑制し、これらに付着した膜の剥がれによる発塵を防止する。【解決手段】 サセプター2表面周辺部とマスク5裏面に、互いに所定の間隔を保ちながら噛み合う堤防状の凸部2a、5aを設け、サセプター2とマスク5の間隔は1〜5mmとし、基板3側からサセプター2とマスク5の隙間を通してチャンバー壁1が直接見えない屈曲構造とした。成膜時に基板3とマスク5の隙間を通って回り込んだ膜8は、サセプター2の凸部2a及びマスク5の凸部5aに付着するため、チャンバー壁1やガス配管7等の内部構造物への付着が抑制される。基板3端部とサセプター2の凸部2aには数mmの隙間を設け、基板3端部と凸部2aの間の部分は、基板3面よりも低い位置としたので、凸部2aに付着した膜8が剥がれても基板3には付着しない。
請求項（抜粋）：
被処理基板が設置された真空チャンバー中に放電用ガスを導入し、上記基板と対向して設けられたターゲットに負電荷を印加してプラズマ放電させ、スパッタリングにより上記基板表面に薄膜を形成する成膜装置において、上記基板を載置するためのサセプターと、上記サセプター及び上記基板と接触せずに上記基板周辺部を全周にわたって上側より覆う枠状のマスクを備え、上記サセプター表面周辺部と上記マスク裏面に、互いに所定の間隔を保ちながら噛み合う堤防状の凸部を設けたことを特徴とする薄膜の成膜装置。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C23C 14/04
, G02F 1/13 101
C23C 14/34 S
, C23C 14/04 A
, G02F 1/13 101
2H088FA18
, 2H088HA01
, 2H088HA08
, 2H088MA20
, 4K029BD01
, 4K029DA10
, 4K029DC27
