特許
J-GLOBAL ID：200903051288824575

ガスを送出する装置及び方法

発明者：
ユドフスキー, ジョセフ

ユドフスキー, ジョセフ について

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ツァイ, ケネス

ツァイ, ケネス について

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ガナイェム, スティーヴ

ガナイェム, スティーヴ について

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シャースティンスキー, セムヨン

シャースティンスキー, セムヨン について


出願人/特許権者：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-502523
公開番号（公開出願番号）：特表2001-509645
出願日： 1998年07月10日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：
【要約】ガスの流れを、基板のエッジ対して基板の半径方向向かってある角度で放出するガス送出装置である。本装置は、ガスをガスオリフィスから、基板の半径方向に対して角度付けされた複数の溝の上を通って基板の半径方向に送出する。結果として得られるガス流は、基板の半径方向に対して10度〜90度のある角度で流れる。
請求項（抜粋）：
半径方向領域(dimension)、周辺エッジ、及び偏角表面とを有する偏角部材と、 前記偏角部材の前記周辺エッジにガスの流れを供給するように適合されたガス供給部材と、 前記偏角部材の前記周辺エッジから、前記偏角部材の前記偏角表面上を横切ってガスを放出するように適合され且つ配置されたガス流放出部材と、 前記偏角部材の前記半径方向領域に対して、1つの角度でガス流を放出するように適合された、前記偏角表面の表面に形成された1つ以上の溝と、 を備える、処理システム中にガス流を送出する装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/448 ,  H01L 21/3065
FI (4件)：
H01L 21/205 ,  C23C 14/34 M ,  C23C 16/448 ,  H01L 21/302 B
Fターム (23件)：
4K029DA06 ,  4K029JA01 ,  4K030EA06 ,  4K030GA02 ,  4K030KA12 ,  5F004AA16 ,  5F004BB18 ,  5F004BB23 ,  5F004BB28 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004CA02 ,  5F004CA09 ,  5F045EB02 ,  5F045EE14 ,  5F045EE20 ,  5F045EF14 ,  5F045EF15 ,  5F045EM02 ,  5F045EM03 ,  5F045EM07 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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