特許
J-GLOBAL ID：200903058813501426

低比重化ポリオルガノシロキサン組成物

発明者：
小野 和久

小野 和久 について


出願人/特許権者：
ジーイー東芝シリコーン株式会社

ジーイー東芝シリコーン株式会社 について


代理人 (1件)： 津国 肇 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-185936
公開番号（公開出願番号）：特開2000-017175
出願日： 1998年07月01日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、低比重で、かつ優れた貯蔵安定性を有し、硬化の際に優れた接着性を発現する組成物室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を提供する。【解決手段】 (A)分子中にケイ素官能基を2個以上有するケイ素官能性ポリオルガノシロキサン;(B)硬化触媒;および(C)ホウケイ酸ガラス中空状充填剤を含むことを特徴とする、室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物である。
請求項（抜粋）：
(A)分子中にケイ素官能基を2個以上有するケイ素官能性ポリオルガノシロキサン;(B)硬化触媒;および(C)純度96%以上、(C)成分の静水圧による50%破壊圧100kgf/cm2以上であるホウケイ酸ガラス中空状充填剤を含むことを特徴とする低比重の室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物。
IPC (3件)：
C08L 83/07 ,  C08K 7/28 ,  C08K 9/06
FI (3件)：
C08L 83/07 ,  C08K 7/28 ,  C08K 9/06
Fターム (35件)：
4J002CP051 ,  4J002CP061 ,  4J002CP081 ,  4J002CP091 ,  4J002DA039 ,  4J002DE109 ,  4J002DE119 ,  4J002DE139 ,  4J002DE149 ,  4J002DE239 ,  4J002DJ009 ,  4J002DJ019 ,  4J002DJ039 ,  4J002DJ049 ,  4J002DK006 ,  4J002DL006 ,  4J002DL009 ,  4J002EC078 ,  4J002EE048 ,  4J002EG048 ,  4J002EX027 ,  4J002EX037 ,  4J002EX067 ,  4J002EX077 ,  4J002EX087 ,  4J002EZ008 ,  4J002EZ048 ,  4J002FA096 ,  4J002FB106 ,  4J002FB149 ,  4J002FD016 ,  4J002FD019 ,  4J002FD147 ,  4J002FD158 ,  4J002GJ02
引用特許：
審査官引用 (8件)
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