特許
J-GLOBAL ID：200903058877430204

プラズマ処理装置および半導体製造装置

発明者：
大見 忠弘

大見 忠弘 について

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平山 昌樹

平山 昌樹 について

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須川 成利

須川 成利 について

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後藤 哲也

後藤 哲也 について


出願人/特許権者：
大見 忠弘

大見 忠弘 について

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東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-094273
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299330
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：
【要約】【課題】 ラジアルスロットラインアンテナを使ったマイクロ波プラズマ処理装置において、シャワープレートの冷却効率を最適化し、同時にマイクロ波の励起効率を最適化する。【解決手段】 ラジアルラインスロットアンテナの放射面を、処理室外壁の一部を構成し、シャワープレートに密接したカバープレートに密接させ、さらにラジアルラインスロットアンテナ上に、処理室外壁中を厚さ方向に流れる熱流を吸収するように冷却器を設ける。
請求項（抜粋）：
外壁により画成され、被処理基板を保持する保持台を備えた処理容器と、前記処理容器に結合された排気系と、前記処理容器上に、前記保持台上の被処理基板に対面するように、前記外壁の一部として設けられ、プラズマガス通路と前記プラズマガス通路に連通する複数の開口部とを有し第1の側において前記保持台上の被処理基板と対面するシャワープレートと、前記シャワープレートの前記第1の側に対向する第2の側に設けられたカバープレートとよりなるプラズマガス供給部と、前記処理容器上に、前記プラズマガス供給部に対応して、前記カバープレートに密接するように設けられたマイクロ波アンテナと、前記マイクロ波アンテナに電気的に結合されたマイクロ波電源とよりなり、前記マイクロ波アンテナは、前記プラズマガス供給部のカバープレートに接触しマイクロ波の放射面を形成する第1の外表面と、前記第1の外表面に対向する第2の外表面とにより画成されたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
H01L 21/31 C ,  B01J 19/08 E ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B
Fターム (32件)：
4G075AA22 ,  4G075BD14 ,  4G075CA03 ,  4G075CA25 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EB42 ,  4G075FB04 ,  4G075FC11 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB32 ,  5F004BD04 ,  5F004DA22 ,  5F045AA09 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB34 ,  5F045AC17 ,  5F045DP03 ,  5F045EB02 ,  5F045EE14 ,  5F045EE17 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EJ05 ,  5F045EJ09 ,  5F045EJ10
引用特許：
審査官引用 (2件)

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