特許
J-GLOBAL ID:200903058906839974

高分子材料の直接造形法および直接造形装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小倉 啓七
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-033269
公開番号(公開出願番号):特開2008-194968
出願日: 2007年02月14日
公開日(公表日): 2008年08月28日
要約:
【課題】材料自体の硬軟、粘着性の有無、軟化点・融点や曲げ強度などの制約が無く、また、フィラメント状材料を不要とし任意の材料形態を使用可能であり、高融点の樹脂においても造形が可能で、造形時間が短く生産性に優れた直接造形法および装置を提供する。【解決手段】本発明のスキャフォールドの直接造形法および装置は、気体加圧ディスペンサを用いて、加熱融解された融解高分子材料がノズルから押し出され、ノズルの吐出位置が制御されることにより三次元構造体が形成されるものである。加圧気体に高分子材料に対して不活性なガス(窒素、二酸化炭素)を使用することにより、材料、特に生分解性高分子や生理活性物質の熱分解による酸化物の生成を抑制することができる。ポリグリコール酸やポリ乳酸などの高融点の樹脂による造形が可能であり、かつ、20mm/秒以上の速度で直接造形できるため、造形時間が短く、生産性に優れている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
気体加圧ディスペンサが加熱シリンジを備え、該加熱シリンジ内で加熱融解された高分子材料がノズルから押し出され、前記ノズルの吐出位置若しくは造形ステージが三次元に可動制御されることによりスキャフォールド構造体が形成されることを特徴とするスキャフォールドの直接造形法。
IPC (2件):
B29C 67/00 ,  A61L 27/00
FI (3件):
B29C67/00 ,  A61L27/00 F ,  A61L27/00 U
Fターム (33件):
4C081AB03 ,  4C081AB04 ,  4C081AB05 ,  4C081BA12 ,  4C081BA13 ,  4C081BA16 ,  4C081BB08 ,  4C081BC01 ,  4C081BC02 ,  4C081CA171 ,  4C081CA182 ,  4C081CC01 ,  4C081CE07 ,  4C081CE09 ,  4C081CE10 ,  4C081CF032 ,  4C081DA01 ,  4C081DC11 ,  4C081EA02 ,  4C081EA03 ,  4C081EA04 ,  4C081EA12 ,  4F213AA29 ,  4F213AC01 ,  4F213AC04 ,  4F213AR02 ,  4F213WA25 ,  4F213WB01 ,  4F213WL10 ,  4F213WL15 ,  4F213WL32 ,  4F213WL62 ,  4F213WL74
引用特許:
出願人引用 (9件)
  • 特許第2930420号公報
  • 米国特許第5518680号公報
  • 米国特許第6730252号公報
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