特許
J-GLOBAL ID：200903059086837803

検査装置及び検査方法

発明者：
楠瀬 治彦

楠瀬 治彦 について


出願人/特許権者：
レーザーテック株式会社

レーザーテック株式会社 について


代理人 (2件)： 家入 健 ,  岩瀬 康弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-280051
公開番号（公開出願番号）：特開2009-109263
出願日： 2007年10月29日
公開日（公表日）： 2009年05月21日
要約：
【課題】パターンのムラと、欠陥等の検査を1台の検査装置により実現すること。【解決手段】本発明の一態様にかかる検査装置10は、試料30上に形成されたパターンを検査する検査装置であって、試料30に照明光を照射する光源11と、試料30のパターンに対する光学的なフーリエ変換面に配置され、試料30からの回折光又は散乱光を反射するデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)13と、DMD13と共役な位置に配置され、DMD13で反射された光を受光する光検出器17とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料上に形成されたパターンを検査する検査装置であって、 前記試料に照明光を照射する光源と、 前記試料のパターンに対する光学的なフーリエ変換面に配置され、前記試料からの回折光又は散乱光を反射するデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)と、 前記DMDと共役な位置に配置され、前記DMDで反射された光を受光する光検出器と、 を備える検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/02 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G01B11/02 G ,  H01L21/66 J
Fターム (31件)：
2F065AA22 ,  2F065BB02 ,  2F065FF41 ,  2F065FF48 ,  2F065GG00 ,  2F065JJ00 ,  2F065JJ08 ,  2F065LL11 ,  2F065LL21 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BB01 ,  2G051CA01 ,  2G051CB01 ,  2G051CB06 ,  2G051CC11 ,  2G051CC13 ,  2G051CD05 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DB12 ,  4M106DB13 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM