特許
J-GLOBAL ID：200903059110758260
レーザー光学装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-282563
公開番号（公開出願番号）：特開2001-105165
出願日： 1999年10月04日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：
【要約】【課題】 レーザー光2を露光機7の光源として用いても、高効率な精密焼き付け加工を可能にする。【解決手段】 レーザー発振器1から出力されるレーザー光2は光ファイバー部材3で干渉性が低減され、拡大光学系4で拡げられて均質化集光光学系統5の複数のレンズ5aにより分岐されて強度が均質化されて干渉縞のないレーザー光2として集光され、全反射ミラー6で反射されて露光機7に送られ、露光機7からは強度分布のないレーザービーム9が出力し、干渉性が高い質のよいレーザー光2が災いすることがなくなり、高効率な精密焼き付け加工を可能にする。
請求項（抜粋）：
レーザー発振器から発振されたレーザー光が送給されレーザー光の干渉性を低減させる干渉性低減手段と、前記干渉性低減手段で干渉性が低減されたレーザー光を複数の光線束に分岐して光強度を均質化すると共に光強度を均質化した複数の光線束を集光する均質化集光光学系統と、前記均質化集光光学系統で集光されたレーザー光が送られる加工光学系統とからなることを特徴とするレーザー光学装置。
IPC (4件)：
B23K 26/06
, B23K 26/08
, G02B 27/09
, B23K101:40
B23K 26/06 E
, B23K 26/06 C
, B23K 26/08 K
, B23K101:40
, G02B 27/00 E
4E068CA05
, 4E068CB08
, 4E068CD05
, 4E068CE08
, 4E068DA11
