特許
J-GLOBAL ID：200903059150004756

異物除去方法

発明者：
鎌田 達弥

鎌田 達弥 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-143690
公開番号（公開出願番号）：特開2001-321735
出願日： 2000年05月16日
公開日（公表日）： 2001年11月20日
要約：
【要約】【課題】 有機系の異物を基板から完全に除去する異物除去方法を提供する。【解決手段】 基板1上に付着した有機系の異物2に対してイオンビーム法を用いて炭素膜3を蒸着して、炭素膜3に有機系異物2を取込む。次にレーザービーム法を用いてレーザービームを結合した有機系異物2と炭素膜3に照射して、有機系の異物2を炭素膜3と一体に基板1から熱蒸発させて剥離させる。
請求項（抜粋）：
基板上に付着した有機系の異物を除去する異物除去方法であって、前記有機系の異物を炭素膜に取込み、前記有機系の異物と前記炭素膜の間に生じる分子間力をもって、前記有機系の異物を前記炭素膜と一体に前記基板から剥離することを特徴とする異物除去方法。
IPC (4件)：
B08B 7/04 ,  B23K 15/00 508 ,  B23K 26/00 ,  H01L 21/304 645
FI (4件)：
B08B 7/04 Z ,  B23K 15/00 508 ,  B23K 26/00 G ,  H01L 21/304 645 D
Fターム (5件)：
3B116AA02 ,  3B116BC01 ,  4E066BA13 ,  4E068DA11 ,  4E068DB07
引用特許：
審査官引用 (3件)

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