レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 岩本行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-310376
公開番号（公開出願番号）：特開2005-129959
出願日： 2004年10月26日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

【課題】レチクルをレチクルホルダに対して望ましい位置に安全に維持するレチクルおよびレチクルホルダのアセンブリを提供する。【解決手段】レチクルホルダ(1)の状態が、形態で閉鎖したレチクル阻止状態とレチクル解放状態との間で調節可能であり、レチクルホルダは、レチクルホルダが阻止状態にある場合に、少なくとも形態を閉鎖した方法で少なくとも1つの方向(X、Y、Z)にてレチクル(MA)を保持するよう配置構成され、レチクルホルダは、レチクルホルダが解放状態にある場合に、レチクルを解放するよう配置構成される。本発明は、レチクルおよびレチクルホルダのアセンブリ、さらに少なくとも1つの検出器を有するシステムにも関し、レチクルは1つまたは複数のマーカ(MRK)を有し、レチクルホルダ(201)および検出器(250)が、相互に対して運動学的に位置合わせするよう配置構成され、検出器が、レチクルホルダに対してレチクルを位置決めするために、前記レチクルマーカを検出するよう配置構成される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

レチクルおよびレチクルホルダのアセンブリで、レチクルホルダ(1)の状態が、形態で閉鎖したレチクル阻止状態とレチクル解放状態との間で調節可能であり、レチクルホルダ(1)は、レチクルホルダ(1)が阻止状態にある場合に、少なくとも形態で閉鎖した方法で少なくとも1つの方向(X、Y、Z)にてレチクル(MA)を保持するよう配置構成され、レチクルホルダ(1)は、レチクルホルダ(1)が解放状態にある場合に、レチクル(MA)を解放するよう配置構成されるものであるアセンブリ。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F1/14 , H01L21/68

FI (3件)：

H01L21/30 503D , G03F1/14 M , H01L21/68 T

Fターム (14件)：

2H095BE12 , 5F031CA07 , 5F031DA12 , 5F031EA12 , 5F031EA18 , 5F031GA58 , 5F031HA53 , 5F031JA04 , 5F031JA28 , 5F031JA38 , 5F031KA20 , 5F031LA07 , 5F031MA27 , 5F046CC09

引用特許：

審査官引用 (11件)

フォトマスク装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-167018 出願人：大日本印刷株式会社
特開平1-033927
露光装置のマスク固定具
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-312642 出願人：株式会社三協精機製作所

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