廃水処理方法および装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：伴俊光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-275110
公開番号（公開出願番号）：特開2002-079276
出願日： 2000年09月11日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】含有物質の酸化処理工程を有する廃水の処理において、終点を正確に検出することにより酸化処理工程を最適な条件で運転でき、それによって過剰のオゾン添加や過剰の紫外線照射を防止可能な、半導体製造工程等からの廃水処理方法および装置を提供する。【解決手段】廃水を被処理水として循環させつつ廃水中に含有されている物質を酸化処理するに際し、酸化処理工程からの処理水の導電率を測定し、処理対象物質を含有する廃水の元となる原液の段階で、一定の割合で導電性を有する処理対象物質のトレース成分を添加し、該原液を使用した後の廃水を処理するに際し、廃水の導電率を測定して廃水中の前記トレース成分の濃度を測定することにより廃水中の処理対象物質の濃度を検出し、該処理対象物質の濃度に基づいて、廃水中に含有されている処理対象物質の酸化処理の条件を処理前に決めることを特徴とする廃水処理方法。

請求項（抜粋）：

廃水を被処理水として循環させつつ廃水中に含有されている物質を酸化処理するに際し、酸化処理工程からの処理水の導電率を測定し、その導電率の変化から酸化反応の進行度合いを判定することを特徴とする廃水処理方法。

IPC (8件)：

C02F 1/72 , C02F 1/20 , C02F 1/78 ZAB , C02F 3/00 , C02F 3/12 , G01N 27/10 , G01N 33/18 , G01N 33/18 106

FI (10件)：

C02F 1/72 Z , C02F 1/20 A , C02F 1/78 ZAB , C02F 3/00 Z , C02F 3/12 V , G01N 27/10 , G01N 33/18 B , G01N 33/18 F , G01N 33/18 Z , G01N 33/18 106 B

Fターム (32件)：

2G060AA06 , 2G060AE18 , 2G060AF08 , 2G060FA15 , 2G060KA07 , 4D027CA00 , 4D027CA03 , 4D028AB00 , 4D028BA00 , 4D028CA01 , 4D028CB01 , 4D037AA13 , 4D037AB04 , 4D037AB13 , 4D037AB16 , 4D037BA01 , 4D037BA18 , 4D037BA23 , 4D037BB06 , 4D037BB09 , 4D037CA07 , 4D037CA12 , 4D050AA13 , 4D050AB02 , 4D050AB04 , 4D050AB15 , 4D050AB18 , 4D050BB02 , 4D050BB09 , 4D050BC09 , 4D050CA03 , 4D050CA17

引用特許：

審査官引用 (5件)

メッキ浴の再生
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-500793 出願人：マイクロリス・コーポレイシヨン
触媒湿式酸化処理装置の制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-125528 出願人：帝人株式会社
クローズドシステムの超純水製造および排水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-030508 出願人：日立造船株式会社

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