ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-291485
公開番号（公開出願番号）：特開2006-106265
出願日： 2004年10月04日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：

【課題】高い感度でレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性の構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a2)とを有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含み、構成単位(a2)が式(II)[R1はアルキル基、R2はアルキル基または水素原子、Xは脂肪族環式基、芳香族環式炭化水素基またはアルキル基を表す。R1のアルキル基の末端とXのアルキル基の末端とが結合して環式基を形成していてもよい。]で表される酸解離性溶解抑制基(II)を有し、酸発生剤成分(B)が式(B-1)[R10はアルキル基またはシクロアルキル基を表す。]で表されるスルホン酸イオンをアニオンとするオニウム塩系酸発生剤(B-1)を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性の構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a2)とを有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記構成単位(a2)が、下記一般式(II)

IPC (3件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

Fターム (14件)：

2H025AA01 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-094443 出願人：東京応化工業株式会社
電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-142185 出願人：富士写真フイルム株式会社

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