特許
J-GLOBAL ID:200903059238152011
光干渉断層像撮像法における分散補正装置
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (3件):
三好 秀和
, 高橋 俊一
, 勝 治人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-093182
公開番号(公開出願番号):特開2005-283155
出願日: 2004年03月26日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】分散の影響を減少させ、リフレクトメトリーとOCT測定の分解能を向上させる。【解決手段】高干渉光の波長を連続的または離散的に変化させた光を参照光路と試料光路とに分波し、参照光路を経由した光と試料光路を経由した光とを合波し、合波された光の強度を検出し、波長ごとの光強度信号データを解析して試料の光軸方向の位置と後方散乱強度との関係を求め、試料の光軸方向に1から1000ミクロン程度に弁別した微小領域ごとに後方散乱光の強度を算出する際、使用する光学部品や試料の屈折率の波長依存性の試料光路と参照光路における差を光学系及び試料の光学的光路長の波長依存性データとして記憶するデータ記憶部34と、検出された波長ごとの光強度信号データを、位置を変数とする関数から位置を変数とする関数に信号変換する際に光学系及び試料の光学的光路長の波長依存性データに基づいて屈折率の波長依存性を補正する変換処理部36を備える。【選択図】図6
請求項(抜粋):
試料の光軸方向の長さに比べて長いコヒーレント長を有する高干渉光を発生し、当該高干渉光の波長を連続的または離散的に変化させる光発生手段と、
前記光発生手段から発生された光を、参照光路と前記試料に導く試料光路とに分波する光分波手段と、前記参照光路を経由した光と前記試料光路を経由した光とを合波する光合波手段と、
前記光合波手段によって合波された光の強度を検出する光強度検出手段と、
前記光強度検出手段により得られた波長ごとの光強度信号データを解析して前記試料の光軸方向の位置と後方散乱強度との関係を求め、前記試料の光軸方向に1から1000ミクロン程度に弁別した微小領域ごとに後方散乱光の強度を算出する後方散乱光強度解析手段とを有する装置において、
使用する光学部品や試料の屈折率の波長依存性の試料光路と参照光路における差を、光学系及び試料の光学的光路長の波長依存性データとして記憶する記憶手段と、
前記検出された波長ごとの光強度信号データを、位置を変数とする関数に信号変換する際に、前記光学系及び試料の光学的光路長の波長依存性データに基づいて屈折率の波長依存性を補正する信号処理手段と、
を備えたことを特徴とする光干渉断層像撮像法における分散補正装置。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N21/17 625
, G01B11/24 B
Fターム (60件):
2F065AA51
, 2F065AA60
, 2F065CC16
, 2F065DD03
, 2F065EE08
, 2F065FF52
, 2F065GG04
, 2F065GG25
, 2F065HH04
, 2F065HH18
, 2F065JJ01
, 2F065JJ02
, 2F065JJ09
, 2F065JJ25
, 2F065LL00
, 2F065LL02
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065LL13
, 2F065LL42
, 2F065LL46
, 2F065MM16
, 2F065MM26
, 2F065MM28
, 2F065NN06
, 2F065PP22
, 2F065QQ03
, 2F065QQ16
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065QQ28
, 2F065QQ33
, 2F065SS03
, 2F065SS13
, 2F065UU07
, 2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059BB14
, 2G059CC16
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059EE11
, 2G059EE12
, 2G059FF09
, 2G059GG01
, 2G059GG09
, 2G059JJ01
, 2G059JJ02
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM03
, 2G059MM09
, 2G059MM10
, 2G059PP04
引用特許:
引用文献:
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