特許
J-GLOBAL ID：200903059239153887

水処理システム

発明者：
飯島 崇文

飯島 崇文 について

, 
久保 貴恵

久保 貴恵 について

, 
村田 隆昭

村田 隆昭 について

, 
沖田 裕二

沖田 裕二 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-149075
公開番号（公開出願番号）：特開2005-329312
出願日： 2004年05月19日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
【課題】 処理水中のオゾン濃度に対して最適値の過酸化水素を添加、もしくは紫外線を照射することで臭素酸イオンの発生を抑制することができる。【解決手段】 本発明は、臭素を含む物質を含有する処理水を蓄える反応槽1と、反応槽に蓄えられた処理水にオゾンを供給するオゾン供給部4と、反応槽に蓄えられた処理水に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部11と、オゾン供給部から供給されるオゾンのオゾン濃度を測定するオゾン濃度測定手段15と、過酸化水素供給部から供給される過酸化水素の流入量を測定する過酸化水素流入量測定手段5と、オゾン濃度測定手段によって測定されたオゾン濃度と、過酸化水素流入量測定手段によって測定された過酸化水素の流入量とに基づいて、オゾン濃度と処理水1リットル当たりに添加する過酸化水素量との比が10以下となるように、少なくとも1つのオゾン供給部及び過酸化水素供給部を制御する制御手段10とを具備する水処理システムである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
臭素を含む物質を含有する処理水を蓄える反応槽と、 前記反応槽に蓄えられた処理水にオゾンを供給するオゾン供給部と、 前記反応槽に蓄えられた処理水に過酸化水素を供給する過酸化水素供給部と、 前記オゾン供給部から供給されるオゾンのオゾン濃度を測定するオゾン濃度測定手段と、 前記過酸化水素供給部から供給される過酸化水素の流入量を測定する過酸化水素流入量測定手段と、 前記オゾン濃度測定手段によって測定されたオゾン濃度と、前記過酸化水素流入量測定手段によって測定された過酸化水素の流入量とに基づいて、前記オゾン供給部及び前記過酸化水素供給部のうち少なくとも一方を制御する制御手段とを具備し、 前記制御手段は、処理水に供給するオゾンでオゾン化ガス1m3あたりのオゾン濃度[g/Nm3]と、処理水1リットル当たりに添加する過酸化水素濃度[mg/L]との比が10以下とすることを特徴とする水処理システム。
IPC (4件)：
C02F1/78 ,  C02F1/32 ,  C02F1/46 ,  C02F1/72
FI (5件)：
C02F1/78 ,  C02F1/32 ,  C02F1/46 Z ,  C02F1/72 Z ,  C02F1/72 101
Fターム (20件)：
4D037AA11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037CA12 ,  4D050AA12 ,  4D050AB44 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA13 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB19 ,  4D061DC13 ,  4D061EA02 ,  4D061EB04
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM