特許

J-GLOBAL ID：200903059271977140

電子材料用基板洗浄液

発明者： 石川 典夫 ,  阿部 優美子 ,  森 清人
出願人/特許権者： 関東化学株式会社
代理人 (1件)： 葛和 清司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-112882
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007071
出願日： 2000年04月14日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 金属を腐食することなく、基板表面の金属不純物、粒子を同時に効率よく除去することのできる洗浄液を提供する。【解決手段】 電子材料用基板を洗浄する洗浄液であって、分散剤および界面活性剤の少なくともいずれかひとつと有機酸化合物とを含有する、前記洗浄液。

請求項（抜粋）：

電子材料用基板を洗浄する洗浄液であって、分散剤および界面活性剤の少なくともいずれかひとつと有機酸化合物とを含有する、前記洗浄液。

IPC (6件)：

H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08 ,  C11D 3/20 ,  C11D 10/02 ,  C11D 17/08

FI (6件)：

H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/304 647 B ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 3/20 ,  C11D 10/02 ,  C11D 17/08

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 半導体ウエハを洗浄するための洗浄剤および洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-238995   出願人：ワッカー・ジルトロニク・ゲゼルシャフト・フュア・ハルブライターマテリアリエン・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
• 半導体基板の洗浄液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-052580   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• 水性リンス組成物及びそれを用いた方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-512904   出願人：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド

審査官引用 (3件)

• 半導体ウエハを洗浄するための洗浄剤および洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-238995   出願人：ワッカー・ジルトロニク・ゲゼルシャフト・フュア・ハルブライターマテリアリエン・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
• 半導体基板の洗浄液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-052580   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• 水性リンス組成物及びそれを用いた方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-512904   出願人：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド