特許
J-GLOBAL ID:200903059346429810
ノズル装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (11件):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 橋本 良郎
, 風間 鉄也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-501926
公開番号(公開出願番号):特表2006-522997
出願日: 2004年02月23日
公開日(公表日): 2006年10月05日
要約:
【課題】本発明は、特に、流体を真空室に噴射するための、ノズル装置(1)に関する。【解決手段】ノズル流路の内輪郭は、少なくとも部分的に凹面状に形成されている。
請求項(抜粋):
特に、流体を真空室に噴射するための、ノズル装置(1,1 ́,28)であって、所定の内輪郭(19,19 ́)を有するノズル流路(18,18 ́)を具備し、このノズル流路(18,18 ́)は、出口開口部(17,17 ́)に通じているノズル装置において、
前記ノズル流路(18,18 ́)の前記内輪郭(19,19 ́)は、少なくとも部分的に凹面状に形成されていることを特徴とするノズル装置(1,1 ́,28)。
IPC (4件):
H05G 2/00
, B05B 1/06
, G21K 5/08
, H01L 21/027
FI (4件):
H05G1/00 K
, B05B1/06
, G21K5/08 X
, H01L21/30 531S
Fターム (18件):
4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AB10
, 4C092AC09
, 4C092BD12
, 4C092BD14
, 4C092BD17
, 4C092BD18
, 4C092BD20
, 4F033BA03
, 4F033CA01
, 4F033DA01
, 4F033EA01
, 4F033FA00
, 4F033NA01
, 5C038EE02
, 5C038EF04
, 5F046GC03
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平1-139771
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基板の表面を加工する構造形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-302887
出願人:アイエムエス-イオネンミクロファブリカチオンズシステムゲーエムベーファー, ザ・プロウボウスト・フェロウズ・アンド・スカラーズ・オブ・ザ・カレッジ・オブ・ザ・ホリー・アンド・アンデバイデッド・トリニティ・オブ・クイーン・エリザベス・ニア・ダブリン, ウニヴェアズィテートゲザムトホースシューレンカセル
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特開平1-139771
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極紫外線光源
公報種別:公表公報
出願番号:特願2003-584754
出願人:サイマーインコーポレイテッド
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