プラズマ処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：亀谷美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-229459
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066173
出願日： 1993年08月23日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】発光強度およびセンサの感度にかかわらず精度の高いエッチング終点判定が可能なプラズマ処理方法を提供する。【構成】本発明によれば、被処理体を処理ガスによりプラズマ処理するに際して、少なくとも2つのプラズマ発光種、例えばCHF3ガスおよび一酸化炭素の発光帯域(219nm付近および240nm〜280nm)における発光強度の総和平均値を検出し、その総和平均値の比または差に基づいて、プラズマ処理の終点を決定するので、低圧処理であったり、あるいはエッチング量が少なく、各波長ピーク値の発光強度が低い場合であっても全体として大きな発光量を監視対象とすることができ、S/N比を高くできる。

請求項（抜粋）：

被処理体を処理ガスをプラズマ化することによりプラズマ処理するに際して、少なくとも2つのプラズマ発光種の発光波長帯域における発光強度の総和平均値をそれぞれ検出し、それらの総和平均値の比または差に基づいて、プラズマ処理の終点を決定することを特徴とするプラズマ処理方法。

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭62-176131
特開昭63-081929
エツチング終点判定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-280556 出願人：東京応化工業株式会社

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