特許
J-GLOBAL ID:200903059488703773

気化装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-170804
公開番号(公開出願番号):特開平6-346243
出願日: 1993年06月03日
公開日(公表日): 1994年12月20日
要約:
【要約】【目的】 液体原料を用いるCVD法では液体原料を気化する方法としてバブラー法が用いられる。しかし、このバブラー法では比較的蒸気圧の高い液体原料は気化できるが、蒸気圧が低く、粘性の高い液体原料は気化し難い。したがって、このような液体原料も容易に気化できると同時に、昇華性の固体原料も気化できる新規な気化装置を提供することを目的とする。【構成】 気密容器内に、蒸発皿と、キャリアガス導入口と、蒸発皿から気化した原料ガスとキャリアガスとをCVD反応室に移送する導管とを備え、液体原料あるいは固体原料を蒸発皿に供給する供給装置と蒸発皿を加熱する加熱装置とを備えた気化装置である。
請求項(抜粋):
気密容器内に、蒸発皿と、キャリアガス導入口と、蒸発皿から気化した原料ガスとキャリアガスとをCVD反応室に移送する導管とを備え、液体原料を蒸発皿に供給する供給装置と蒸発皿を加熱する加熱装置とを備えた気化装置において、蒸気圧の低い液体原料を気化することを特徴とする気化装置。
IPC (2件):
C23C 16/44 ,  H01L 21/205
引用特許:
審査官引用 (3件)

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