特許
J-GLOBAL ID：200903059523121545
金属の腐食防止剤及び洗浄液
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-003568
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273663
出願日： 2000年01月12日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】従来以上に水環境を経由して人の健康や生態系に有害な影響を与える恐れが少ない金属の腐食防止剤、及び該腐食防止剤を主成分とする半導体デバイスなどの洗浄に好適な洗浄液を提供する。【解決手段】〔1〕分子内に少なくとも1つのメルカプト基を含む化合物であり、化合物を構成する炭素数が2以上であり、メルカプト基が結合している炭素と水酸基が結合している炭素とが隣接して結合している脂肪族アルコール系化合物を含有してなる金属の腐食防止剤。〔2〕上記の腐食防止剤を含有してなる洗浄液。〔3〕半導体デバイスを前記〔2〕記載の洗浄液で洗浄する半導体デバイスの洗浄方法。
請求項（抜粋）：
分子内に少なくとも1つのメルカプト基を含む化合物であり、化合物を構成する炭素数が2以上であり、メルカプト基が結合している炭素と水酸基が結合している炭素とが隣接して結合している、脂肪族アルコール系化合物を含有してなる金属の腐食防止剤。
IPC (9件)：
C23F 11/16
, C11D 7/34
, C23F 11/04
, C23F 11/06
, C23G 1/06
, C23G 1/18
, C23G 5/032
, H01L 21/304 647
, B08B 3/08
C23F 11/16
, C11D 7/34
, C23F 11/04
, C23F 11/06
, C23G 1/06
, C23G 1/18
, C23G 5/032
, H01L 21/304 647 A
, B08B 3/08 Z
