特許
J-GLOBAL ID：200903059544888838
純水加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
豊田 武久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-110519
公開番号（公開出願番号）：特開平7-294000
出願日： 1994年04月26日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造において洗浄に使用する純水を加熱する装置として、破壊されやすい石英ガラスを用いることなく、安全性、信頼性の高い装置を提供する。【構成】 加熱用容器の一端側に純水流入口を、他端側に温純水流出口を形成し、かつ加熱用容器内に、ヒータを伝熱体で被覆してなる加熱部材を設け、その加熱部材における純水と接する部分を、ステンレス鋼を基材としかつ表面に安定な不働態皮膜を形成した構成とした。また加熱用容器の純水と接する部分もステンレス鋼表面に不働態皮膜を形成した構成とする。あるいは、前記加熱部材における純水と接する部分を、金属材料を基材としその表面にPEEK樹脂を被覆した構成とする。
請求項（抜粋）：
加熱用容器の一端側に純水流入口が形成されるとともに他端側に温純水流出口が形成されており、かつ前記加熱用容器内に、ヒータを伝熱体で被覆してなる加熱部材が設けられており、前記加熱部材における容器内の純水に接する部分が、ステンレス鋼を基材としかつその表面に不働態皮膜を形成した構成とされていることを特徴とする、純水加熱装置。
IPC (2件)：
F24H 1/10
, H01L 21/304 341
