特許
J-GLOBAL ID:200903059576809778
光反応性組成物、該光反応性組成物を含有した酸反応性高分子組成物及び酸反応性樹脂層
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田中 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-049588
公開番号(公開出願番号):特開平8-248561
出願日: 1995年03月09日
公開日(公表日): 1996年09月27日
要約:
【要約】【目的】本発明は、光反応速度の大なる光反応性組成物を提供することを目的とする。【構成】光の作用によって酸を発生する光酸発生剤と、該光酸発生剤より発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤とからなる光反応性組成物である。
請求項(抜粋):
光の作用によって酸を発生する光酸発生剤と、該光酸発生剤より発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤とからなる光反応性組成物。
IPC (5件):
G03C 1/675
, C08K 5/15 KFY
, C08K 5/42
, C08L 25/18 KGA
, C08L 33/12 LHY
FI (5件):
G03C 1/675 A
, C08K 5/15 KFY
, C08K 5/42
, C08L 25/18 KGA
, C08L 33/12 LHY
引用特許:
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