特許
J-GLOBAL ID:200903059639934772

原子層堆積装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  佐久間 滋
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-536480
公開番号(公開出願番号):特表2005-506446
出願日: 2002年10月15日
公開日(公表日): 2005年03月03日
要約:
【課題】【解決手段】化学剤及び反応性気体の混合を最小にする原子層堆積装置及び方法が開示されている。分配前方ライン26を設置し且つ監視することにより、所望のとき及び所望の箇所にてのみ第一の前駆体及び第二の前駆体がその他の化学剤及び反応性気体と混合される。また、独立的で且つ、専用のチャンバ出口17、29、隔離弁24、34、排出前方ライン22、36及び排出ポンプ20、30が提供され、これらは、必要なとき、特定の気体に対して作動される。
請求項(抜粋):
原子層堆積装置において、 第一の前駆体入口と、第二の前駆体入口と、第一のチャンバ出口とを有するプロセス反応器チャンバと、 該プロセス反応器チャンバの前記第一の前駆体入口に結合された第一の分配弁と、 前記プロセス反応器チャンバの前記第二の前駆体入口に結合された第二の分配弁と、 前記プロセス反応器チャンバに結合されて、該プロセス反応器チャンバから選択的に分離する形態とされた第一の排出路と、 第一及び第二の端部を有する第一の分配前方ラインとを備え、 前記第一の端部が、前記第一の分配弁に結合され、 前記第一の分配前方ラインの前記第二の端部が、前記第一の排出路又は第一の分配ポンプの一方に結合される、原子層堆積装置。
IPC (2件):
C23C16/455 ,  H01L21/205
FI (2件):
C23C16/455 ,  H01L21/205
Fターム (9件):
4K030EA01 ,  4K030KA28 ,  4K030KA45 ,  5F045AA03 ,  5F045AF01 ,  5F045BB16 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EE17
引用特許:
審査官引用 (4件)
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