循環クーラントを用いた温度コントローラ及びそのための温度制御方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田英彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-194209
公開番号（公開出願番号）：特開平7-204984
出願日： 1994年08月18日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【目的】急速な過渡応答を有する温度制御を最小限の流量で行うことができる、ワークステーションとワークステーションにおけるワーク媒体の温度のコントローラとその制御方法の提供。【構成】コントローラ10は冷却器12と、クーラント温度のセンサ14及び制御装置16と、流体クーラントの供給源と、循環ポンプ30と、クーラントをワークステーション28まで循環するための流路26と、バイパスバルブと48、ワークステーション温度のセンサ40及び制御装置42とを有する。流路26はフローレギュレータ34とヒータ36とを有する。バイパスバルブ48はフローレギュレータ34とヒータ36を迂回する。ワークステーション温度制御装置42はヒータ36とバイパスバルブ48の動作を制御して、クーラントの温度をワークステーション28に対して望む温度よりも低くし、過冷却を避けつつ急速な過渡応答を実現する。

請求項（抜粋）：

ワークステーションと、該ワークステーションにおけるワーク媒体の温度を所定の温度に調節するための、循環クーラントを用いた温度コントローラであって、前記ワークステーションの温度を検出するワークステーション温度検出装置と、流体クーラントの供給源及びクーラントを前記所定の温度以下の温度に維持するための装置と、前記クーラントを前記供給源から前記ワークステーションへまたその中へ供給する流路を有して、前記ワークステーションとその中の前記ワーク媒体の温度を調節するクーラント循環装置と、前記流路の中に設けられていて、前記ワークステーションへ供給される前記クーラントをほぼ前記所定の温度まで加熱して前記ワークステーションと前記ワーク媒体を前記所定の温度に維持する前記クーラントのためのヒータと、前記ヒータの加熱を調節する制御装置であって、前記ワークステーションの温度と前記所定の温度との間に大きな差があるときには前記ヒータによる加熱を減らし、前記温度の差が小さくなるにつれて、また前記ワークステーションの温度が前記所定の温度にほぼ近づくにつれて、前記ヒータによる加熱を大きくする加熱制御装置と、からなる温度コントローラ。

IPC (5件)：

B23Q 11/14 , G05D 23/00 , G05D 23/19 , H01L 21/027 , H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭60-167745
特公平3-035060
水冷却装置の始動制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-307517 出願人：株式会社日立製作所

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