レーザビーム露光マーキング装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部修一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-069198
公開番号（公開出願番号）：特開平11-231547
出願日： 1998年02月13日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】基板上の正確な露光位置に、精密な露光を繰り返しマーキングすることができる使い勝手のよいレーザビーム露光マーキング装置を安価に提供する。【解決手段】 f・θレンズ19,20を備えたベース盤18上に、レーザ光源5,露光シャッタ装置6,7及びスキャナー12〜15を備えたレーザビーム発射装置1を設け、且つ設定された文字、記号や露光パターン等を実現するため、前記露光シャッタ装置6,7及びスキャナー12〜15を制御するコントローラ16,17を設ける。前記ベース盤18に設けたf・θレンズ19,20を通して描画用レーザビームを受ける基板22の下方に、X軸方向用とY軸方向用のレーザスポット位置検出器23,24,25を配置する。

請求項（抜粋）：

レーザ光源、露光シャッタ装置及びレーザビームのスキャナーを備えたレーザビーム発射装置を設け、且つ設定された文字、記号や露光パターン等を実現するため、前記露光シャッタ装置及びスキャナーを制御するコントローラを設けると共に、前記レーザビーム発射装置のレーザビーム発射口と対向して描画用レーザビームを受ける基板の搬送コンベア又は載置部を設け、且つ2個以上のレーザスポット位置検出器を設け、露光開始前に前記レーザスポット位置検出器の検出値に基づいてコントローラの描画制御信号を補正することを特徴とするレーザビーム露光マーキング装置

IPC (2件)：

G03F 7/20 505 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/20 505 , H01L 21/30 514 F

引用特許：

審査官引用 (8件)

レーザビームスキャナ及びレーザ加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-263010 出願人：日本電気株式会社
特開昭62-094343
特開平4-284986

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