特許
J-GLOBAL ID：200903059704344449
希土類含有金属酸化物薄膜の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
梶 良之
, 須原 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-077724
公開番号（公開出願番号）：特開2006-256916
出願日： 2005年03月17日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】 例えばUV光励起高効率蛍光膜等に有用な希土類含有金属酸化物薄膜を安定して製造できる方法を提供する。【解決手段】 液相析出法(LPD法)により基板上に希土類含有金属酸化物薄膜を直接析出させる。前記LPD法における反応溶液が、希土類イオンキレート錯体と金属フッ化物錯体とを混合する工程を含む方法で製造されている。上記反応溶液にフッ素イオン消費剤を添加することにより、前記基板上に希土類含有金属酸化物薄膜をLPD法により析出させる(選択図(a))。そして、生成した薄膜を高温加熱処理する(選択図(b)〜(d))。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
LPD法により基板上に希土類含有金属酸化物薄膜を直接析出させる、希土類含有金属酸化物薄膜の製造方法であって、
前記LPD法における反応溶液が、希土類イオンキレート錯体と金属フッ化物錯体とを混合する工程を含む方法で製造されており、
上記反応溶液にフッ素イオン消費剤を添加することにより、前記基板上に希土類含有金属酸化物薄膜をLPD法により析出させ、
生成した薄膜を高温加熱処理することを特徴とする、希土類含有金属酸化物薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4G042DA02
, 4G042DB03
, 4G042DB08
, 4G042DB22
, 4G042DB28
, 4G042DC03
, 4G042DD02
, 4G042DE03
, 4G042DE12
, 4G048AA01
, 4G048AB02
, 4G048AC03
, 4G048AC08
, 4G048AD06
, 4G048AE05
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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引用文献：
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