特許
J-GLOBAL ID:200903059761427717
光照射によって細胞付着性を付与可能にする細胞付着・培養用基材
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (3件):
平山 一幸
, 篠田 哲也
, 小川 耕太
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-240292
公開番号(公開出願番号):特開2009-065945
出願日: 2007年09月15日
公開日(公表日): 2009年04月02日
要約:
【課題】光照射によって細胞付着性を付与可能であり、且つ、長期の細胞培養に適した細胞付着・培養用基材(基板)を提供する。【解決手段】基材表面に、基材結合基を介して、光分解性基及び細胞付着抑制基が順に共有結合で結合されている細胞付着・培養用基材。前記光分解性基としては、例えば次の構造式で表される2価の有機基を用いることができ、前記細胞付着抑制基としては、次の構造式-(CH2CH2O)mR(mは3〜1200の整数、RはH又はCH3)で表されるポリエチレングリコール(PEG)基が好ましく用いられる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基材表面に、基材結合基を介して、光分解性基及び細胞付着抑制基が順に共有結合で結合されている、細胞付着・培養用基材。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (5件):
4B029AA21
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B065AA90X
, 4B065BC41
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (4件)
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Abstracts of Papers, 228th ACS National Meeting, Philadelphia, PA, United States, August 22-26, 2004
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J. Am. Chem. Soc., vol. 129, pages 6694-6695 (Epub. May 2007)
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Biochim. Biophys. Acta, vol. 1326, pages 236-248 (1997)
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