光学素子の製造方法および製造された光学素子

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-118414
公開番号（公開出願番号）：特開平11-311711
出願日： 1998年04月28日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】透明基材1の表裏両面に紫外線硬化型樹脂層4,5を介して一対のスタンパ18,17の原盤パターン18a,17aを転写して微細パターン4b,5bを有するホログラム素子Hを製造する方法において、微細パターン4b,5bを同時成形するに際し、両者のアライメント作業を簡易化する。【解決手段】ダイセットから独立して、第1のスタンパ18に対し紫外線硬化型樹脂層52を介してダミー基材1′を固定し、ダミー基材1′に対して紫外線硬化型樹脂53aを介して第2のスタンパ17を載せ、顕微鏡で観察しながら第2のスタンパ17の原盤パターン17aを第1のスタンパ18の原盤パターン18aにアライメントする。このようにして作製したアライメント体Aをダイセットに装着し、透明基材1の表裏両面の紫外線硬化型樹脂層4,5に対する原盤パターン18a,17aの転写による微細パターン4b,5bの成形を行う。

請求項（抜粋）：

第1のスタンパおよび第2のスタンパの原盤パターンから透明基材の表裏両面に光学パターンを転写する工程を含む光学素子の製造方法であって、両スタンパを原盤パターンどうしのアライメント状態でダミー基材に対して仮固定し、この仮固定のアライメント体の両スタンパをダイセットに固定した後に、アライメント体からダミー基材を取り外すようにした光学素子の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/32 , B29D 11/00 , G02B 5/18 , B29K101:10

FI (3件)：

G02B 5/32 , B29D 11/00 , G02B 5/18

引用特許：

審査官引用 (4件)

両面レリーフパターン複製方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-102846 出願人：大日本印刷株式会社
特開平2-301421
特開昭64-086102

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