特許
J-GLOBAL ID：200903059850902011
投影露光方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-064777
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261563
出願日： 1997年03月18日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：
【要約】【課題】 投影像の結像特性を補正する場合に、予め定めてある制御特性に誤差がある場合でも、正確に結像特性を補正すると共に、その結像特性の補正によって発生する他の結像特性の変化を正確に補正する。【解決手段】 結像特性制御系17で密閉空間19の内圧を制御することで投影光学系PLの投影倍率を制御する。この際の内圧と倍率との関係(制御特性)を求めるため、基準マーク部材44上の所定の基準マークの像とレチクルR上のアライメントマークとの位置ずれ量をレチクルアライメント系41A,41Bを介して検出し、内圧に対する実際の投影倍率を計測する。その倍率の制御に伴うデフォーカス量の計測のため、基準マーク部材44上の開口パターン45の像を投影光学系PLを介して基準マーク部材44上に再結像し、開口パターン45を通過した光量を検出する光電検出器55の検出信号より像面を求める。
請求項（抜粋）：
予め定められた制御特性に基づいて所定の結像特性を補正できる投影光学系を介して、所定の照明光のもとでマスクパターンの像を感光基板上に露光する投影露光方法において、前記マスクパターンの露光前に、前記制御特性に基づいて前記投影光学系の前記所定の結像特性を調整したときに、前記投影光学系の前記所定の結像特性及び他の結像特性の実際の変化量を計測し、該計測結果に基づいて前記制御特性を補正しておき、前記マスクパターンの露光時に、前記補正された制御特性に基づいて前記投影光学系の前記所定の結像特性を調整すると共に、前記他の結像特性の変化を相殺するように調整を行うことを特徴とする投影露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 A
, G03F 7/20 521
