低温液化ガス供給設備

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-215651
公開番号（公開出願番号）：特開2000-042397
出願日： 1998年07月30日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】【課題】除菌フィルタ装置を備える低温液化ガス供給設備において、液体窒素等の低温液化ガスの気化を抑制することのできる手段を提供すること。【解決手段】本発明は、低温液化ガス12を貯蔵する貯槽14と、この貯槽14の下端に接続され、当該貯槽から低温液化ガスを取り出して使用点に供給する供給ライン16と、供給ラインに設けられた除菌フィルタ装置26とを備える低温液化ガス供給設備において、除菌フィルタ装置におけるフィルタ要素28を貯槽14の下端よりも低い位置に配置したことを特徴とする。この構成においては、貯槽底部の低温液化ガスが過冷却状態を保ったままフィルタ要素に送られるため、フィルタ要素で圧力損失が生じても、気化は抑制される。

請求項（抜粋）：

低温液化ガスを貯蔵する貯槽と、前記貯槽の下端に接続され、前記貯槽から低温液化ガスを取り出して使用点に供給する供給ラインと、前記供給ラインに設けられた除菌フィルタ装置とを備え、前記除菌フィルタ装置におけるフィルタ要素を前記貯槽の下端よりも低い位置に配置したことを特徴とする低温液化ガス供給設備。

IPC (3件)：

B01J 4/00 103 , B01D 29/11 , F17C 9/00

FI (4件)：

B01J 4/00 103 , F17C 9/00 A , B01D 29/10 510 C , B01D 29/10 530 Z

Fターム (10件)：

3E073AA01 , 3E073BA21 , 3E073DB03 , 4G068AA01 , 4G068AB12 , 4G068AC02 , 4G068AC16 , 4G068AD03 , 4G068AD12 , 4G068AF40

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-077303
ある量の極低温の液体を供給する滅菌可能な設備
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-218480 出願人：レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
特公昭48-029717

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