特許

J-GLOBAL ID：200903059975281965

脂環構造を有する新規第三級アルコール化合物

発明者： 長谷川 幸士 ,  渡辺 武 ,  金生 剛
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-378693
公開番号（公開出願番号）：特開2002-179624
出願日： 2000年12月13日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で示される第三級アルコール化合物。【化1】(式中、R1、R2はそれぞれ独立に炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示し、構成炭素原子上の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子に置換されていてもよい。また、R1、R2は互いに結合して、脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Y、Zはそれぞれ独立に単結合又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状の2価の有機基を示す。kは0又は1である。)【効果】 本発明の第三級アルコール化合物を重合することにより得られるポリマーを用いて調製したレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、基板との密着性、感度、解像性、エッチング耐性に優れ、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。特に、ArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーの露光波長での吸収が小さいため、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成でき、超LSI製造用の微細パターン形成材料として好適である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される第三級アルコール化合物。【化1】(式中、R1、R2はそれぞれ独立に炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示し、構成炭素原子上の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子に置換されていてもよい。また、R1、R2は互いに結合して、脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Y、Zはそれぞれ独立に単結合又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状の2価の有機基を示す。kは0又は1である。)

IPC (5件)：

C07C 69/753 ,  C07C 69/608 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C08F 32/08

FI (5件)：

C07C 69/753 Z ,  C07C 69/608 ,  G03F 7/039 601 ,  C08F 32/08 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (30件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ30 ,  4H006BN10 ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100BA03P ,  4J100BA15P ,  4J100BB01P ,  4J100BB18P ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC09P ,  4J100CA01 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 単量体、重合体、単量体製造方法、重合体製造方法、フォトレジスト、フォトレジスト製造方法および半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-367518   出願人：現代電子産業株式会社
• 開環メタセシス(共)重合体の水素添加物及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-295826   出願人：三井化学株式会社