特許
J-GLOBAL ID：200903059998005760
サンプル処理装置の遠心充填
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 西山 雅也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-557716
公開番号（公開出願番号）：特表2005-537911
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：
本発明は、装置を回転軸の周りを回転させることにより、サンプル物質をサンプル処理装置(10)中の複数のプロセスチャンバ(50)に分配する方法および装置を提供する。プロセスチャンバは、装填チャンバから延びる導管(40)に沿って配置され、装填チャンバ、導管、およびプロセスチャンバは一緒に、サンプル処理装置の長さに沿って整列しているプロセスアレイを形成する。プロセスアレイは、ベントがない、即ち、プロセスアレイの内部容積へのアクセスは、装填チャンバを通ってのみ可能である。また、サンプル物質をプロセスチャンバの中に遠心装填する方法、並びに、サンプル処理装置およびキャリアを備えるアセンブリも開示される。
請求項（抜粋）：
サンプル処理装置中でサンプル物質を分配する方法であって、
反対側にある第1および第2の端部、並びに前記第1の端部に近接して配置される装填チャンバ、前記第2の端部の方に延びる主導管、および前記主導管に沿って分配されている複数のプロセスチャンバを備えるベントのない少なくとも1つのプロセスアレイを備えるサンプル処理装置を提供する段階であって、前記主導管が前記装填チャンバおよび前記複数のプロセスチャンバと流体連通している段階、
前記各プロセスアレイの装填チャンバにサンプル物質を装填する段階、および
前記サンプル処理装置を前記サンプル処理装置の第1の端部に近接して配置される回転軸の周りに回転させることにより、前記サンプル物質をプロセスチャンバの少なくとも幾つかに移送する段階であって、前記プロセスチャンバが前記装填チャンバよりも回転軸から遠くに配置される段階、
を含む、方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
4G075AA39
, 4G075AA65
, 4G075BA05
, 4G075BA06
, 4G075BD08
, 4G075BD16
, 4G075CA02
, 4G075CA12
, 4G075CA42
, 4G075EE12
, 4G075FA01
, 4G075FA08
, 4G075FA12
, 4G075FB02
, 4G075FB12
