特許
J-GLOBAL ID：200903060073473398
積層型エマルション製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-039989
公開番号（公開出願番号）：特開2004-268029
出願日： 2004年02月17日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】均質なエマルションを長期間にわたって効率よく、大量に、かつ安定に製造できる装置の提供。【解決手段】分散相が微小孔を通して連続相中に押し出されてエマルションが生成されるように構成されるエマルション製造装置であって、前面板と、背面板とを有し、前記前面板と前記背面板との間に、連続相が供給され、エマルションが形成される流路を有する層A/厚さ方向に貫通した微小孔を有する層B/分散相の流路を有する層Cが連続して積層された積層単位を含むことを特徴とする積層型エマルション製造装置。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
分散相が微小孔を通して連続相中に押し出されてエマルションが生成されるように構成されるエマルション製造装置であって、前面板と、背面板とを有し、前記前面板と前記背面板との間に、下記層A〜Cが連続して積層された積層単位を複数含むことを特徴とする積層型エマルション製造装置。
層A:連続相が供給され、エマルションが形成される流路を有する層。
層B:厚さ方向に貫通した微小孔を有する層。
層C:分散相の流路を有する層。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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