特許
J-GLOBAL ID：200903060100139632

気相成長装置

発明者：
大櫃 義徳

大櫃 義徳 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032742
公開番号（公開出願番号）：特開2000-232072
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：
【要約】【課題】 排気配管を取り外すことなく、その排気配管の内壁に付着した析出物を除去できる気相成長装置を提供すること。【解決手段】 排気配管4内に、その内壁に沿って移動できる除去リング6を設ける。この除去リング6に、排気配管4の外部のマグネット7を磁気結合して、このマグネット7で除去リング6を排気配管4の内壁に沿って移動させて、析出物5を取り除く。このように、排気配管4を取り外さなくても、つまり、危険、困難な作業をしなくても、簡単にメンテナンスをして、稼働率を向上できる。
請求項（抜粋）：
排気配管の内壁に付着した生成物をその排気配管の外部での操作で取り除くことができる除去装置を備えることを特徴とする気相成長装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/44
FI (2件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/44 J
Fターム (21件)：
4K030AA05 ,  4K030AA11 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030EA12 ,  4K030KA22 ,  4K030KA26 ,  5F045AA04 ,  5F045AB09 ,  5F045AC08 ,  5F045AC19 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AD11 ,  5F045AD12 ,  5F045BB10 ,  5F045EG08 ,  5F045EG10 ,  5F045EJ08 ,  5F045EJ09
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 反応生成物の処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-083683   出願人：富士通株式会社
  • 気相成長装置の清掃方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-072253   出願人：日本酸素株式会社
  • 配管クリーニング機構
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-090257   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
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審査官引用 (4件)
  • 反応生成物の処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-083683   出願人：富士通株式会社
  • 気相成長装置の清掃方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-072253   出願人：日本酸素株式会社
  • 配管クリーニング機構
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-090257   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
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