特許
J-GLOBAL ID:200903060177529883

多孔性金属錯体及びその製造方法、並びに多孔性金属錯体を含むガス吸蔵材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  清水 義憲 ,  石坂 泰紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-026722
公開番号(公開出願番号):特開2009-184970
出願日: 2008年02月06日
公開日(公表日): 2009年08月20日
要約:
【課題】十分なガス吸着性能を有する新規な多孔性金属錯体を提供すること。【解決手段】マンガン原子または亜鉛原子と下記一般式(1)で表される配位子との配位結合によって構成されている金属錯体を含み、該金属錯体の複数が集積して形成された細孔構造を有する多孔性金属錯体。 【化1】 [上記一般式(1)中、R1及びR2は同一の基であってカルボキシル基または水酸基を示し、m及びnは、それぞれ独立に1または2を示す。]【選択図】図1
請求項(抜粋):
マンガン原子または亜鉛原子と下記一般式(1)で表される配位子との配位結合によって構成されている金属錯体を含み、該金属錯体の複数が集積して形成された細孔構造を有する多孔性金属錯体。
IPC (2件):
C07D 213/22 ,  B01J 20/22
FI (2件):
C07D213/22 ,  B01J20/22 A
Fターム (16件):
4C055AA10 ,  4C055AA13 ,  4C055BA01 ,  4C055CA01 ,  4C055DA25 ,  4C055DB11 ,  4C055EA01 ,  4G066AB12B ,  4G066AB24B ,  4G066BA22 ,  4G066CA27 ,  4G066CA38 ,  4G066DA01 ,  4G066FA05 ,  4G066FA21 ,  4G066FA34
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)
  • Bulletin of Korean Chem. Soc., 1985, 6, 141-144

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