特許
J-GLOBAL ID：200903060298288280
リソグラフィ装置、アナライザ・プレート、サブアセンブリ、投射システムのパラメータ測定方法、及びパターン化手段
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-362558
公開番号（公開出願番号）：特開2006-173628
出願日： 2005年12月16日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：
【課題】投影システムによって投射される放射の偏光を測定する能力を備えたリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】投射システムPLと放射センサDSの間のアナライザ・プレートAPが、投射放射ビームによって照らされている。アナライザ・プレートは2つの交差領域を含み、それぞれ異なる偏光方向の放射を透過する。投射放射ビームは、ビームの偏光に影響を与えることなくパターン化される。一方の領域がもう一方の領域より多く放射を受けるように、投射放射ビームをパターン化することによって、放射センサDSは偏光選択性が与えられる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
投射システム(PL)を使用して、断面にパターン装置(MA)からのパターンで放射ビームを投射するように配置されたリソグラフィ装置において、第1の方向に偏光された放射を優先的に通すように配置された第1の領域(LNX、RNX)、及び第2の方向に偏光された放射を優先的に通すように配置された第2の領域(LNY、RNY)を有するアナライザ・プレート(AP)と、前記アナライザ・プレート(AP)の前記第1及び第2の領域を通る放射を測定するように配置された放射センサ(DS)とを備えると共に、前記放射センサによる測定中に、前記パターンによって照らされる第1の領域の区域及び第2の領域の区域を選択することが可能であるリソグラフィ装置であって、前記第2の領域(LNY、RNY)が前記第1の領域(LNX、RNX)と交差することを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G01J 4/00
H01L21/30 516A
, G03F7/20 521
, G01J4/00
5F046BA04
, 5F046CB15
, 5F046CB17
, 5F046CB27
, 5F046CC01
, 5F046DA01
, 5F046DA13
, 5F046DB01
, 5F046DB11
, 5F046DC09
, 5F046DC12
