特許
J-GLOBAL ID：200903075863341758
デバイス製造方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-104522
公開番号（公開出願番号）：特開2004-343079
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】例えば微細な隔離ゲートを印刷するための改善された方法および装置、特に改善された処理寛容度および/またはより均一なレンズ加熱を提供する方法および装置を提供すること。【解決手段】本発明によれば、放射線が棒の長さに平行に偏光される矩形または棒状の軸線上照明マスクが提供され、このマスクは、σ値が同等の円形単極に比べて焦点深度DOFおよび露光寛容度を向上させるとともに、比較的小さいレンズ加熱を達成する。【選択図】図3A
請求項（抜粋）：
放射線の投影ビームを提供するための照明システムと、
パターニング手段を支持するための支持構造体であって、前記パターニング手段は、投影ビームの断面にパターンを与えるように機能する支持構造体と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンが付与されたビームを前記基板のターゲット部分に投影するための投影システムと
を有するリソグラフィック投影装置において、
強度分布を規定するための前記手段が、軸線上の実質的に直線の強度分布を投影ビームに与えること、および
リソグラフィック投影装置が、前記投影ビームに直線偏光を与えるための偏光手段を有していることを特徴とするリソグラフィック投影装置。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G02B5/18
, G03F7/20
H01L21/30 527
, G02B5/18
, G03F7/20 521
, H01L21/30 515D
2H049AA03
, 2H049AA55
, 2H049AA64
, 2H049AA69
, 5F046BA03
, 5F046CB05
, 5F046CB15
, 5F046CB17
, 5F046DA01
, 5F046DB02
