特許
J-GLOBAL ID：200903060363773670
非接触支持装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山田 強
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-315641
公開番号（公開出願番号）：特開2004-152941
出願日： 2002年10月30日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】ワークを一定の浮上量で支持し得る非接触支持装置を得る。【解決手段】非接触支持装置1の上面には、静圧発生用の多孔質体を設けるとともに、真空引き用の負圧用溝を設ける。多孔質体の上面からは静圧発生用ポート20からの加圧エアが噴き出して被検査基板Wとの間に静圧が発生する。その一方、負圧用溝周辺のエアは真空引き用ポート23を介して吸引されるため被検査基板Wが装置1の上面側へ引き寄せる力(負圧)が発生する。この静圧と負圧とのバランスによって軸受け剛性が高められ、被検査基板Wは一定した浮上量が確保される。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
本体のワーク支持面側に、加圧気体を噴出させてワークを非接触支持する浮上部を設け、その非接触支持された状態のワークに対して所定の作業が行われるようにした非接触支持装置において、
前記本体の支持面側には静圧発生部と真空引きを行う吸引部とを設け、静圧発生部から加圧気体を噴出させることによって静圧を生成するとともに、吸引部周辺の気体を吸引するようにした非接触支持装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/68 N
, F16C32/06 B
3J102AA02
, 3J102BA20
, 3J102CA02
, 3J102CA03
, 3J102CA19
, 3J102CA32
, 3J102EA02
, 3J102EA06
, 3J102EA18
, 3J102FA04
, 3J102FA06
, 3J102FA08
, 3J102FA09
, 3J102GA01
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA80
, 5F031MA33
, 5F031PA30
